4G和8GU盘的打开速度是一样的吗?假如在网吧用,打开会不会很慢?
Lz 其实是一样的,只是存储量不同.
王老板以600元买进电脑桌增加0.22倍开价一段时间后无人买王老板就让店员降价0.2倍请算算王老板是赔还是赚
600X0.22+600=售出价732元 732-732X0.2=降价后的价格585.6 所以王老板赔了
一块近似平行四边形的菜地,底是600米,高是底的2倍,一年共收获1080吨白菜,平均每公顷収多少吨
1公顷=10000平方米 600*2*600=7200㎡=0.72公顷 1080÷0.72=1500吨
某工厂准备加工600个零件 在加工了100个零件后 采取了新技术 使每天的工作效率是原来2倍,结果共用7天完成任务,求该工厂原来每天加工多少个零件?
该工厂原来每天加工x个零件.则100/x+(600-100)/2x=7.200+500=14x14x=700x=50经检验 x=50 是原方程的解,且符合题意.答:该工厂原来每天加工50个零件请采纳同学
一块近似平行四边形的菜地底600米高是底的2倍一年收获1080吨白菜平均每公顷收多少吨白
600*2=1200米.高 600*1200=720000平方米. 720000平方米=72公顷 1080÷72=15吨.平均每公顷收15吨.
用600立方米的沙子配置三合土,配置的三合土的体积是沙的3倍.要铺一条宽20米的路,要铺10厘米厚,可以铺多长?
沙子加上三合土总的体积是600+600*3=2400立方米 10厘米=0.1米 2400/(0.1*20)=1200米 可以铺1200米
什么是光刻胶以及光刻胶的种类
光刻胶是一种有机化合物，它受紫外光曝光后，在显影液中的溶解度会发生变化。一般光刻胶以液态涂覆在硅片表面上，曝光后烘烤成固态。 1、光刻胶的作用： a、将掩膜板上的图形转移到硅片表面的氧化层中； b、在后续工序中，保护下面的材料（刻蚀或离子注入）。2、光刻胶的物理特性参数： a、分辨率（resolution）。区别硅片表面相邻图形特征的能力。一般用关键尺寸（CD，Critical Dimension）来衡量分辨率。形成的关键尺寸越小，光刻胶的分辨率越好。 b、对比度（Contrast）。指光刻胶从曝光区到非曝光区过渡的陡度。对比度越好，形成图形的侧壁越陡峭，分辨率越好。 c、敏感度（Sensitivity）。光刻胶上产生一个良好的图形所需一定波长光的最小能量值（或最小曝光量）。单位：毫焦/平方厘米或mJ/cm2。光刻胶的敏感性对于波长更短的深紫外光（DUV）、极深紫外光（EUV）等尤为重要。 d、粘滞性/黏度（Viscosity）。衡量光刻胶流动特性的参数。粘滞性随着光刻胶中的溶剂的减少而增加；高的粘滞性会产生厚的光刻胶；越小的粘滞性，就有越均匀的光刻胶厚度。光刻胶的比重（SG，Specific Gravity）是衡量光刻胶的密度的指标。它与光刻胶中的固体含量有关。较大的比重意味着光刻胶中含有更多的固体，粘滞性更高、流动性更差。粘度的单位：泊（poise），光刻胶一般用厘泊（cps，厘泊为1%泊）来度量。百分泊即厘泊为绝对粘滞率；运动粘滞率定义为：运动粘滞率=绝对粘滞率/比重。单位：百分斯托克斯（cs）＝cps/SG。 e、粘附性（Adherence）。表征光刻胶粘着于衬底的强度。光刻胶的粘附性不足会导致硅片表面的图形变形。光刻胶的粘附性必须经受住后续工艺（刻蚀、离子注入等）。 f、抗蚀性（Anti-etching）。光刻胶必须保持它的粘附性，在后续的刻蚀工序中保护衬底表面。耐热稳定性、抗刻蚀能力和抗离子轰击能力。 g、表面张力（Surface Tension）。液体中将表面分子拉向液体主体内的分子间吸引力。光刻胶应该具有比较小的表面张力，使光刻胶具有良好的流动性和覆盖。 h、存储和传送（Storage and Transmission）。能量（光和热）可以激活光刻胶。应该存储在密闭、低温、不透光的盒中。同时必须规定光刻胶的闲置期限和存贮温度环境。一旦超过存储时间或较高的温度范围，负胶会发生交联，正胶会发生感光延迟。3、光刻胶的分类 a、根据光刻胶按照如何响应紫外光的特性可以分为两类：负性光刻胶和正性光刻胶。 负性光刻胶（Negative Photo Resist）。最早使用，一直到20世纪70年代。曝光区域发生交联，难溶于显影液。特性：良好的粘附能力、良好的阻挡作用、感光速度快；显影时发生变形和膨胀。所以只能用于2μm的分辨率。 正性光刻胶（Positive Photo Resist）。20世纪70年代，有负性转用正性。正性光刻胶的曝光区域更加容易溶解于显影液。特性：分辨率高、台阶覆盖好、对比度好；粘附性差、抗刻蚀能力差、高成本。 b、根据光刻胶能形成图形的最小光刻尺寸来分：传统光刻胶和化学放大光刻胶。 传统光刻胶。适用于I线（365nm）、H线（405nm）和G线（436nm），关键尺寸在0.35μm及其以上。 化学放大光刻胶（CAR，Chemical Amplified Resist）。适用于深紫外线（DUV）波长的光刻胶。KrF（248nm）和ArF（193nm）。4、光刻胶的具体性质 a、传统光刻胶：正胶和负胶。光刻胶的组成：树脂（resin/polymer），光刻胶中不同材料的粘合剂，给与光刻胶的机械与化学性质（如粘附性、胶膜厚度、热稳定性等）；感光剂，感光剂对光能发生光化学反应；溶剂（Solvent），保持光刻胶的液体状态，使之具有良好的流动性；添加剂（Additive），用以改变光刻胶的某些特性，如改善光刻胶发生反射而添加染色剂等。 负性光刻胶。树脂是聚异戊二烯，一种天然的橡胶；溶剂是二甲苯；感光剂是一种经过曝光后释放出氮气的光敏剂，产生的自由基在橡胶分子间形成交联。从而变得不溶于显影液。负性光刻胶在曝光区由溶剂引起泡涨；曝光时光刻胶容易与氮气反应而抑制交联。 正性光刻胶。树脂是一种叫做线性酚醛树脂的酚醛甲醛，提供光刻胶的粘附性、化学抗蚀性，当没有溶解抑制剂存在时，线性酚醛树脂会溶解在显影液中；感光剂是光敏化合物（PAC，Photo Active Compound），最常见的是重氮萘醌（DNQ），在曝光前，DNQ是一种强烈的溶解抑制剂，降低树脂的溶解速度。在紫外曝光后，DNQ在光刻胶中化学分解，成为溶解度增强剂，大幅提高显影液中的溶解度因子至100或者更高。这种曝光反应会在DNQ中产生羧酸，它在显影液中溶解度很高。正性光刻胶具有很好的对比度，所以生成的图形具有良好的分辨率。 b、化学放大光刻胶（CAR，Chemical Amplified Resist）。树脂是具有化学基团保护（t-BOC）的聚乙烯（PHS）。有保护团的树脂不溶于水；感光剂是光酸产生剂（PAG，Photo Acid Generator），光刻胶曝光后，在曝光区的PAG发生光化学反应会产生一种酸。该酸在曝光后热烘（PEB，Post Exposure Baking）时，作为化学催化剂将树脂上的保护基团移走，从而使曝光区域的光刻胶由原来不溶于水转变为高度溶于以水为主要成分的显影液。化学放大光刻胶曝光速度非常
工资如何核算才正确？
目前针对固定月薪制工资计算方法大致有以下三种方法：
A：(固定月薪/应出勤天数)*实际出勤天数+固定月薪/20.92/8*1.5*平时加班工时+固定月薪/20.92/8*2*周末加班工时；
B：(固定月薪-固定月薪/20.92*缺勤天数)+固定月薪/20.92/8*1.5*平时加班工时+固定月薪/20.92/8*2*周末加班工时；
C：固定月薪/20.92*实际出勤天数+固定月薪/20.92/8*1.5*平时加班工时+固定月薪/20.92/8*2*周末加班工时；
按照A方法：其工资为：600/23*19+600/20.92/8*1.5*21=608.58
按照B方法：其工资为：600-600/20.92*4+600/20.92/8*1.5*21=598.21
按照C方法：其工资为：600/20.92*19+600/20.92/8*1.5*21=657.86
可以看出同样的一个案例如果采取不同的薪资计算方法其工资金额相关很大。
某工厂准备加工600个零件,在加工了300个零件后,采取了新技术,使每天的工作效率是原来的3倍,结果提前2天
设原来每天x个.600÷x=300÷x+300÷3x+2600/x=400/x+2200/x=2 x=100 有不明白的地方再问哟,祝你学习进步,更上一层楼! (*^__^*)
固态硬盘速度很慢,但明明是才换的
你的主板是SATA2.0接口,最大传输速率只有150MB/秒,如果你更换支持SATA3.0接口的主板就会改善了,目前3.0接口可以达到600MB/秒,速度相差四倍.