溅射靶材的主要应用
溅射靶材主要应用于电子及信息产业，如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等；亦可应用于玻璃镀膜领域；还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等行业。
分类 根据形状可分为长靶，方靶，圆靶，异型靶 根据成份可分为金属靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材 根据应用不同又分为半导体关联陶瓷靶材、记录介质陶瓷靶材、显示陶瓷靶材、超导陶瓷靶材和巨磁电阻陶瓷靶材等 根据应用领域分为微电子靶材、磁记录靶材、光碟靶材、贵金属靶材、薄膜电阻靶材、导电膜靶材、表面改性靶材、光罩层靶材、装饰层靶材、电极靶材、封装靶材、其他靶材 磁控溅射原理：在被溅射的靶极(阴极)与阳极之间加一个正交磁场和电场，在高真空室中充入所需要的惰性气体(通常为Ar气)，永久磁铁在靶材料表面形成250～350高斯的磁场，同高压电场组成正交电磁场。在电场的作用下，Ar气电离成正离子和电子，靶上加有一定的负高压，从靶极发出的电子受磁场的作用与工作气体的电离几率增大，在阴极附近形成高密度的等离子体，Ar离子在洛仑兹力的作用下加速飞向靶面，以很高的速度轰击靶面，使靶上被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离靶面飞向基片淀积成膜。 磁控溅射一般分为二种：支流溅射和射频溅射，其中支流溅射设备原理简单，在溅射金属时，其速率也快。而射频溅射的使用范围更为广泛，除可溅射导电材料外，也可溅射非导电的材料，同时还司进行反应溅射制备氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射频的频率提高后就成为微波等离子体溅射，常用的有电子回旋共振(ECR)型微波等离子体溅射。
磁控溅射镀膜靶材：
金属溅射镀膜靶材，合金溅射镀膜靶材，陶瓷溅射镀膜靶材，硼化物陶瓷溅射靶材，碳化物陶瓷溅射靶材，氟化物陶瓷溅射靶材 ，氮化物陶瓷溅射靶材 ，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷溅射靶材 ，硅化物陶瓷溅射靶材 ，硫化物陶瓷溅射靶材 ，碲化物陶瓷溅射靶材 ，其他陶瓷靶材，掺铬一氧化硅陶瓷靶材(Cr-SiO)，磷化铟靶材(InP)，砷化铅靶材(PbAs)，砷化铟靶材(InAs)。
高纯高密度溅射靶材有：
溅射靶材（纯度：99.9%-99.999%）
1. 金属靶材：
镍靶、Ni、钛靶、Ti、锌靶、Zn、铬靶、Cr、镁靶、Mg、铌靶、Nb、锡靶、Sn、铝靶、Al、铟靶、In、铁靶、Fe、锆铝靶、ZrAl、钛铝靶、TiAl、锆靶、Zr、铝硅靶、AlSi、硅靶、Si、铜靶Cu、钽靶T、a、锗靶、Ge、银靶、Ag、钴靶、Co、金靶、Au、钆靶、Gd、镧靶、La、钇靶、Y、铈靶、Ce、钨靶、w、不锈钢靶、镍铬靶、NiCr、铪靶、Hf、钼靶、Mo、铁镍靶、FeNi、钨靶、W等金属溅射靶材。
2. 陶瓷靶材
ITO靶、AZO靶、氧化镁靶、氧化铁靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化钛靶、氧化铬靶、氧化锌靶、硫化锌靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、二氧化锆靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二氧化锆靶，、二氧化铪靶，二硼化钛靶，二硼化锆靶，三氧化钨靶，三氧化二铝靶五氧化二钽，五氧化二铌靶、氟化镁靶、氟化钇靶、硒化锌靶、氮化铝靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化钛靶，碳化硅靶，铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、氧化镍靶等陶瓷溅射靶材。
3.合金靶材
镍铬合金靶、镍钒合金靶、铝硅合金靶、镍铜合金靶、钛铝合金、镍钒合金靶、硼铁合金靶、硅铁合金靶等高纯度合金溅射靶材。
钛靶材的功能和特点谁知道 告诉下谢谢！！！！
北京泛德辰科技有限公司是北京中关村科技园区专门从事新材料研发、生产和全球销售的高科技综合性公司，是经北京市科委认定的高新技术企业。由资深专家领导的高素质的研发团队、富有跨国公司管理经验的管理人员领导的营销团队和高级财务经理团队组成的一流专业人才是公司发展的坚强后盾。我公司通过热（冷）等静压方法、金属冶炼、粉末冶金法专业生产各种磁控溅射靶材：铬管靶、铝管靶、铜管靶、单晶硅基片，氧化硅基片，氧化铝基片等。
主要根据客户的具体要求加工各种规格，各种成分的靶材，我们的产品质量更高，价格更低，交货时间短，与国内多家镀膜厂，镀膜机生产厂，科研机构，国内外大学保持良好的业务往来，目前我公司正以优质的产品、系统的服务和科学的管理为客户提供共同成长、发展的空间。欢迎各界人士前来洽谈业务，请告知我们您的具体需求，我们会给您我们同行业内更优惠的价格和更好的服务！
ito靶材是什么？
ito靶材属于陶瓷靶材的一种，近些年来人们对于电脑、电视、手机显示屏的追求越发明显，由此也带动了ito靶材的市场需求。但目前ito技术发展还不够先进，发展空间巨大。
ITO材料是一种n型半导体材料，该种材料包括ITO粉末、靶材、导电浆料及ITO透明导电薄膜。其主要应用分为平板显示器(FPD)产业，如液晶显示器(LCD)、薄膜晶体管显示器(TFT-LCD)、电激发光显示器(EL)、场发射显示器(FED)、电致有机发光平面显示器(OELD)等离子显示器(PDP)等。
扩展资料：
国内对ITO靶材的需求量大幅增长，国内生产的ITO靶材密度低，无法满足高端平板显示器行业对于靶材质量的要求．仅仅部分用于低端液晶产品中。目前世界上只有日本、美国、德国等少数发达国家和地区能生产ITO靶材，而我国平板显示器产业所需求的ITO靶材的98％依赖于进口，因此，研制开发ITO靶材生产技术是现有In生产企业开发In深加工技术的首选目标。
国外ITO靶材的生产工艺和技术设备已较为成熟和稳定。其主要制备方法有热等静压法、热压法和烧结法。
靶材是什么
靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时，会产生不同的杀伤破坏效应。
镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。
材质分类：
⒈金属靶材
镍靶、Ni、钛靶、Ti、锌靶、Zn、铬靶、Cr、镁靶、Mg、铌靶、Nb、锡靶、Sn、铝靶、Al、铟靶、In、铁靶、Fe、锆铝靶、ZrAl、钛铝靶、TiAl、锆靶、Zr、铝硅靶、AlSi、硅靶、Si、铜靶Cu、钽靶T、a、锗靶、Ge、银靶、Ag、钴靶、Co、金靶、Au、钆靶、Gd、镧靶、La、钇靶、Y、铈靶、Ce、钨靶、w、不锈钢靶、镍铬靶、NiCr、铪靶、Hf、钼靶、Mo、铁镍靶、FeNi、钨靶、W等。
⒉陶瓷靶材
ITO靶、氧化镁靶、氧化铁靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化钛靶、氧化铬靶、氧化锌靶、硫化锌靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、二氧化锆靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二氧化锆靶，、二氧化铪靶，二硼化钛靶，二硼化锆靶，三氧化钨靶，三氧化二铝靶五氧化二钽，五氧化二铌靶、氟化镁靶、氟化钇靶、硒化锌靶、氮化铝靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化钛靶，碳化硅靶，铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、氧化镍靶、溅射靶材等。
⒊合金靶材
铁钴靶FeCo、铝硅靶AlSi、钛硅靶TiSi、铬硅靶CrSi、锌铝靶ZnAl、钛锌靶材TiZn、钛铝靶TiAl、钛锆靶TiZr、钛硅靶TiSi、 钛镍靶TiNi、镍铬靶NiCr、镍铝靶NiAl、镍钒靶NiV、镍铁靶NiFe等。
百度百科http://baike.baidu.com/view/601854.htm
靶材的运用原理
靶材运用:荷能粒子(例如氩离子)轰击固体表面,引起表面各种粒子,如原子、分子或团束从该物体表面逸出的现象称“溅射”.在磁控溅射镀膜中,通常是应用氩气电离产生的正离子轰击固体(靶),溅出的中性原子沉积到基片(工件)上,形成膜层,磁控溅射镀膜具有“低温”和“快速”两大特点. QQ:10213735
靶材的作用和用途?
靶材就是目标材料.用于高能激光武器中,不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时,会产生不同的杀伤破坏效应.用于物理镀膜中的溅镀,主要有金属靶材和陶瓷靶材.不知道你想问的是哪个领域使用的.
什么叫靶材?电容触摸屏的靶材主要是什么?
电容触摸屏用的镀膜基板是用磁控溅射工艺制造的. 在磁控溅射制程中用到的镀膜材料称为靶材. 用作电容触摸屏的靶材一般有:InSn,Si,Ag,Al,Mo等
靶材的介绍
镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源.简单说的话,靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料,用于高能激光武器中,不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时,会产生不同的杀伤破坏效应.例如:蒸发磁控溅射镀膜是加热蒸发镀膜、铝膜等.更换不同的靶材(如铝、铜、不锈钢、钛、镍靶等),即可得到不同的膜系(如超硬、耐磨、防腐的合金膜等).
靶材参加什么样的展会好推广自己的产品呢？
【靶材的定义】
靶材的定义：
靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时，会产生不同的杀伤破坏效应。中国最专业的展会平台——808街。例如：蒸发磁控溅射镀膜是加热蒸发镀膜…铝膜等。更换不同的靶材（如铝、铜、不锈钢、钛、镍靶等），即可得到不同的膜系（如超硬、耐磨、防腐的合金膜等）。
【靶材的种类】
靶材的种类：
1： 金属靶材
2：陶瓷靶材
3：合金靶材
【磁控溅射靶材种类】：
金属溅射镀膜靶材，合金溅射镀膜靶材，陶瓷溅射镀膜靶材，硼化物陶瓷溅射靶材，碳化物陶瓷溅射靶材，氟化物陶瓷溅射靶材 ，氮化物陶瓷溅射靶材 ，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷溅射靶材 。
硅化物陶瓷溅射靶材 ，硫化物陶瓷溅射靶材 ，碲化物陶瓷溅射靶材 ，其他陶瓷靶材，掺铬一氧化硅陶瓷靶材(Cr-SiO)，磷化铟靶材(InP)，砷化铅靶材(PbAs)，砷化铟靶材(InAs)。
【靶材的发展】
各种类型 的溅射薄膜材料 在半导体集成 电路 (VLSI ) 、光碟、平面显示器以及工件的表面涂层等 方面都得到了广泛的应用。20世纪 90年代 以来，溅 射靶材及溅射技术的同步发展，极大地满足了各种新 型电子元器件发展的需求。
【靶材的制作工艺】
磁控溅射靶材
1：1）磁控溅射原理：在被溅射的靶极(阴极)与阳极之间加一个正交磁场和电场，在高真空室中充入所需要的惰性气体(通常为Ar气)，永久磁铁在靶材料表面形成250～350高斯的磁场，同高压电场组成正交电磁场。
在电场的作用下，Ar气电离成正离子和电子，靶上加有一定的负高压，从靶极发出的电子受磁场的作用与工作气体的电离几率增大，中国最专业的展会、会议、活动发布平台——808街。在阴极附近形成高密度的等离子体，Ar离子在洛仑兹力的作用下加速飞向靶面，以很高的速度轰击靶面，使靶上被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离靶面飞向基片淀积成膜。
磁控溅射一般分为二种：支流溅射和射频溅射，其中支流溅射设备原理简单，在溅射金属时，其速率也快。而射频溅射的使用范围更为广泛，除可溅射导电材料外，也可溅射非导电的材料，同时还司进行反应溅射制备氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。
若射频的频率提高后就成为微波等离子体溅射，目前常用的有电子回旋共振(ECR)型微波等离子体溅射。
【应用领域】
1：微电子领域
2：平面显示器用靶材
3：存储技术用靶材
所以靶材其实就是新兴的产业，那么参加的展会应该就是什么科学展啊，什么新能源展，什么稀有材料展啊，什么化工展这样之类的，也可以是什么材料机械展 之类的。
你也可以在不是很确定参加什么会展的时候，就可以再问一下展会的前期工作人员哦。
以上内容由808街负责整理并发布。
问下锗这种物质是什么?
不能完全确认。
锗曾经在人参等高级药材中发现，而且这些药材都有极高的保健、药用价值，因此有的人认为锗有保健价值。但针对锗的科学定论还没有，也就是不可信。
锗的基本常识介绍锗是1886年文克勒用光谱分析的方法发现的，但 是它“失业”了五十多年。化学家哥德斯密特曾经感慨地说过这样的话：哈特莱煤矿的煤灰里有千分之十六的氧化锗，这种煤灰1吨就可以生产16公斤的氧化锗。假如这是金块的话，那么运送车辆就得严密戒备。可是锗却是连小偷也不注意的东西。直到1942年，特别是最近以来，人们发现用锗可以制造晶体管来代替电子管，用作雷达和电子计算机的主要元件，锗才变为重要的尖端材料。 锗在地壳中的含量为1．5％，比金、银、碘等常见的元素多得多。不过，它太分散了，属于稀散稀有金属。在大自然中，没有锗矿。在煤矿中，大约含有十万分之一左右的锗，也就是说，在1n电煤中，大约含l0克的锗。然而，在烟道灰中却含有千分之一，甚至百分之一的锗。含锗的矿物有硫锗铁矿，浅色闪锌矿等，其中锗都以杂质存在。 锗是一种浅灰色的金属。据x光的研究证明；锗晶体里的原子排列，与金刚石相同。所以它硬而脆。 锗用来制造晶体整流器(二极管)、晶体放大器(三极管)、检波器等，比通常的电子管寿命长、体积小、耐震、耐撞，所以被广泛地用于电子计算机、雷达设备、遥控仪器上。 用作半导体材料的锗，必须非常纯，含锗要在 99．999999％以上(简称八个九)。现在，人们用区域熔炼法，已经制出了十一个九以上的纯锗，也就是说，在一千亿个原子中，只有一个杂质原子。现在，全世界锗的年产量只有几十吨。你别以为这个数字很小，要知道每个半导体器件所需要的锗，只有极少极少的一点儿，几十吨的锗，可以制成几十亿个半导体器件 锗的电阻在温度改变的时候，会立即发生灵敏的变化，所以锗还被用来制造热敏电阻，来测定温度。这种热敏电阻，甚至可以觉察到1公里以外人体所射出的红外线。这种热敏电阻还被广泛地应用于寻找地下水，寻找千米以外的飞行目标，因为它可以测出万分之五摄氏度的微小变化。 锗可以用来制造光电池。光照射到经过特殊处理的半导体上，能够不断地放出电来。光照越强，发电能力越大。锗光电池把光能直接变成电能，既不需要锗燃料，又不需要成套设备，为我们从太阳光那里取得无穷无尽的廉价电力开辟了新途径。医学上，由于锗能刺激红血球的生成，所以锗的化合物可用来治疗贫血病与嗜眠症。锗亦为生命必需微量元素。有机锗在人体中有很强的脱氢能力，可防止细胞衰老，增强人体免疫力。锗还具有抗肿瘤、抗炎症、抗病毒等生理作用。据日本学者报道，有机锗是一种广谱抗癌药，治疗转移性肺癌、肝癌、生殖系统癌和白血病都有效。据瑞典和美国报道，有机锗治疗恶性淋巴癌、卵巢癌、子宫颈癌、大肠癌、前列腺癌和黑色素癌均有效。因此，有机锗被誉为“人类健康的保护神”。